Improving thickness uniformity of sputter-deposited films by using magnet rotation speed control technique

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标题	Improving thickness uniformity of sputter-deposited films by using magnet rotation speed control technique 利用磁体转速控制技术改善溅射沉积薄膜的厚度均匀性相关领域磁铁材料科学溅射转速旋转（数学）过程（计算）光学光电子学机械工程薄膜计算机科学工程类物理纳米技术人工智能操作系统
网址	https://doi.org/10.1109/issm.2018.8651152
DOI	10.1109/issm.2018.8651152 doi
其它	期刊：作者：Tatsuhiko Miura; Shota Takita; Makoto Usuki; S. Omoto; Takashi Nakagawa; et al 出版日期：2018-12-01
求助人	John 在 2024-10-03 02:24:03 发布自丹麦，悬赏 10 积分
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