标题 |
Inverse lithography with adaptive threshold regularization
具有自适应阈值正则化的逆光刻
相关领域
正规化(语言学)
反向
平版印刷术
反问题
计算机科学
数学
物理
光学
人工智能
数学分析
几何学
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期刊: 作者:Jiale Liu; Wenjing He; Shounian Deng; Weiping Ding; Yuhang Wang; et al 出版日期:2024-12-10 |
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