Click chemistry assisted organic-inorganic hybrid photoresist for ultra-fast two-photon lithography

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标题	Click chemistry assisted organic-inorganic hybrid photoresist for ultra-fast two-photon lithography 用于超快双光子光刻的化学辅助有机-无机杂化光刻胶相关领域光刻胶材料科学平版印刷术抵抗纳米技术制作光电子学医学病理替代医学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.addma.2022.102658
DOI	10.1016/j.addma.2022.102658 doi
其它	期刊：Additive manufacturing 作者：Chun Cao; Jianting Liu; Xianmeng Xia; Xiaoming Shen; Yiwei Qiu; et al 出版日期：2022-02-02
求助人	小号在 2024-10-08 08:38:17 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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