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 Long-term and short-term plasticity of Ta2O5/HfO2 memristor for hardware neuromorphic application 用于硬件神经形态应用的Ta2O5/HfO2忆阻器的长期和短期塑性
相关领域
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记忆电阻器
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期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Jiho Ryu; Chandreswar Mahata; Sungjun Kim 出版日期：2021-01-01 |
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