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 Single Rare-Earth Ion Doped Tin-Oxo Nanocluster Photoresists for High-Resolution Extreme Ultraviolet Lithography 用于高分辨率极紫外光刻的单稀土离子掺杂锡氧代纳米团簇光刻胶
相关领域
锡
平版印刷术
兴奋剂
极紫外光刻
材料科学
稀土
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极端紫外线
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期刊：Nano Letters 作者：Fangfang Liu; Guangyue Shi; Zhen Ni; Zuohu Zhou; Taoli Guo; et al 出版日期：2025-01-26 |
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