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 Acid Diffusion Length Corresponding to Post Exposure Bake Time and Temperature 对应于曝光后烘烤时间和温度的酸扩散长度
相关领域
激光线宽
抵抗
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Jin-Back Park; Sung-Hyuck Kim; Sung‐Jin Kim; Jung-Hyuk Cho; Hye-Keun Oh 出版日期：2007-01-01 |
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