Direct Growth of Graphene Nanowalls on Silicon Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition for High-Performance Si-Based Infrared Photodetectors

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标题	Direct Growth of Graphene Nanowalls on Silicon Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition for High-Performance Si-Based Infrared Photodetectors 用于高性能硅基红外光探测器的等离子体增强原子层沉积在硅上直接生长石墨烯纳米壁相关领域响应度材料科学石墨烯光电子学原子层沉积基质（水族馆）红外线的硅异质结光电探测器图层（电子）纳米技术光学海洋学物理地质学
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.1c00807
DOI	10.1021/acsaelm.1c00807 doi
其它	期刊：ACS Applied Electronic Materials 作者：Jingkun Cong; Afzal Khan; Jiajun Li; Wei Wang; Mingsheng Xu; et al 出版日期：2021-11-08
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