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标题
Mask process correction validation for multi-beam mask lithography
用于多光束掩模光刻的掩模工艺校正验证
相关领域
光学接近校正 光掩模 计算机科学 过程（计算） 进程窗口 平版印刷术 GSM演进的增强数据速率 光栅图形 抵抗 电子工程 光学 人工智能 材料科学 工程类 物理 纳米技术 图层（电子） 操作系统
网址
https://doi.org/10.1117/12.2503284
DOI
10.1117/12.2503284 doi
其它 期刊：
作者：Ingo Bork; Peter Buck; Bhardwaj Durvasula; Stefan Eder-Kapl; P. Hudek; et al
出版日期：2018-10-12
求助人
jun 在 2025-02-24 09:15:24 发布自安徽，悬赏 20 积分
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