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标题
Study on polishing slurry waste reduction in polishing monocrystalline silicon based on ultrasonic atomization
基于超声雾化的单晶硅抛光中抛光浆料废弃物减少研究
相关领域
抛光 泥浆 磨料 化学机械平面化 材料科学 冶金 超声波传感器 废物管理 环境科学 复合材料 工程类 物理 声学
网址
https://doi.org/10.1016/j.jclepro.2019.06.067
DOI
10.1016/j.jclepro.2019.06.067 doi
其它 期刊：Journal of Cleaner Production
作者：Tianqi Zhang; Zhao Yú; Tao Yu; Tianbiao Yu; Jiashun Shi; et al
出版日期：2019-06-07
求助人
xiaoyao 在 2025-03-17 19:02:45 发布自吉林，悬赏 10 积分
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