| 标题 |
 Chemistry of photolithographic imaging materials based on the chemical amplification concept 基于化学放大概念的光刻成像材料化学
相关领域
抵抗
光刻
纳米技术
平版印刷术
纳米光刻
聚合物
解聚
光刻胶
化学过程
化学
材料科学
光电子学
制作
高分子化学
有机化学
病理
医学
替代医学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Photochemistry and Photobiology C: Photochemistry Reviews 作者：Seong Yun Moon; Jong Man Kim 出版日期：2008-01-12 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cocolu
嗯哼
zho
清爽老九
Jack80
大红豆子
nvatk16
暴躁的鸿涛
strack
加菲丰丰
Billy
七慕凉
杳鸢
江九言
从容芮
踏实努力
tuanheqi
Sandy
务实的秋灵
乐乐乐乐乐乐
皖公网安备34019202002308
