IR spectra and etch rates of plasma-enhanced chemically vapour-deposited phosphosilicate glass films

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标题	IR spectra and etch rates of plasma-enhanced chemically vapour-deposited phosphosilicate glass films 等离子体增强化学气相沉积磷硅酸盐玻璃薄膜的红外光谱和刻蚀速率相关领域等离子体增强化学气相沉积退火（玻璃）化学气相沉积分析化学（期刊）红外光谱学水蒸气材料科学化学红外线的谱线复合材料纳米技术光学有机化学物理天文
网址	https://doi.org/10.1016/0040-6090(86)90270-1
DOI	10.1016/0040-6090(86)90270-1 doi
其它	期刊：Thin solid films 作者：Z. Alexieva; M.A. Tzoneva; D.A. Dichkov 出版日期：1986-07-01
求助人	nico 在 2024-04-22 13:20:27 发布自湖南，悬赏 10 积分
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