Study on the Mechanism of Micro-Defect Reduction during Si Final Polishing with Water-Soluble Polymers

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标题	Study on the Mechanism of Micro-Defect Reduction during Si Final Polishing with Water-Soluble Polymers 相关领域材料科学抛光化学机械平面化薄脆饼磨料泥浆聚合物表面粗糙度化学工程 Zeta电位纳米技术复合材料纳米颗粒工程类
网址	https://doi.org/10.1149/2.0161810jss
DOI	10.1149/2.0161810jss doi
其它	期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Yanlei Li; He Yangang; Chenwei Wang; Ming Sun; Jianwei Zhou; et al 出版日期：2018-10-09
求助人	泊松在 2022-10-18 20:18:05 发布自陕西，悬赏 10 积分
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