| 标题 |
 Silicon nitride deposited by laser assisted plasma enhanced chemical vapor deposition for next generation organic electronic devices 相关领域
化学气相沉积
沉积（地质）
等离子体处理
等离子体
基质（水族馆）
硅
原子层沉积
远程等离子体
激光器
X射线光电子能谱
图层（电子）
化学工程
分析化学（期刊）
氮化物
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| 网址 | |
| DOI |
10.1016/j.apsusc.2020.148313
doi
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Ki Hyun Kim; Ki Seok Kim; You Jin Ji; Ji Eun Kang; Geun Young Yeom 出版日期：2020 |
| 求助人 |
裕隆 在
2020-12-16 08:55:35 发布，悬赏 10 积分
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