| 标题 |
 IMEC N7, N5 and beyond: DTCO, STCO and EUV insertion strategy to maintain affordable scaling trend 相关领域
极紫外光刻
节点（物理）
缩放比例
工程类
计算机科学
电信
物理
光电子学
数学
结构工程
几何学
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| DOI |
10.1117/12.2299335
doi
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| 其它 |
期刊：Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability XII 作者：Chi-Min Yuan; Jason P. Cain; Greg McIntyre; Kurt Ronse; Victor Blanco; et al 出版日期：2018 |
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2022-02-16 15:47:33 发布，悬赏 10 积分
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