Advanced EUV negative tone resist and underlayer approaches exhibiting sub-20nm half-pitch resolution

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标题	Advanced EUV negative tone resist and underlayer approaches exhibiting sub-20nm half-pitch resolution 相关领域极紫外光刻材料科学抵抗极端紫外线光电子学平版印刷术
网址	https://doi.org/10.1117/12.2515600
DOI	10.1117/12.2515600 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI 作者：Thomas Gädda; Luong Nguyen Dang; Markus Laukkanen; Kimmo Karaste; Oskari Kähkönen; et al 出版日期：2019
求助人	宁友灵在 2022-05-09 16:06:33 发布，悬赏 10 积分
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