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 Etch characteristics of HfO2 films on Si substrates 硅衬底上HfO2薄膜的刻蚀特性
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：S. Norasetthekul; P.Y. Park; Kwang Hyeon Baik; K.P. Lee; Jae-Ho Shin; et al 出版日期：2002-02-01 |
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