Benzophenone doped polydimethylsiloxane: Resist platform for MeV electron beam lithography assisted microlens array fabrication

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标题	Benzophenone doped polydimethylsiloxane: Resist platform for MeV electron beam lithography assisted microlens array fabrication 二苯甲酮掺杂聚二甲基硅氧烷：MeV电子束光刻辅助微透镜阵列制备的抗蚀剂平台相关领域抵抗平版印刷术材料科学聚二甲基硅氧烷电子束光刻微透镜制作光学 X射线光刻光刻下一代光刻软光刻光刻胶光电子学纳米技术镜头（地质）图层（电子）物理病理医学替代医学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2021.111632
DOI	10.1016/j.mee.2021.111632 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Madhushree Bute; S.D. Dhole; V.N. Bhoraskar; Aditya Abhyankar; Chiaki Terashima; et al 出版日期：2021-10-01
求助人	了然在 2023-10-14 08:42:08 发布自山东，悬赏 10 积分
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