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标题
Benzophenone doped polydimethylsiloxane: Resist platform for MeV electron beam lithography assisted microlens array fabrication
二苯甲酮掺杂聚二甲基硅氧烷:MeV电子束光刻辅助微透镜阵列制备的抗蚀剂平台
相关领域
抵抗 平版印刷术 材料科学 聚二甲基硅氧烷 电子束光刻 微透镜 制作 光学 X射线光刻 光刻 下一代光刻 软光刻 光刻胶 光电子学 纳米技术 镜头(地质) 图层(电子) 物理 病理 医学 替代医学
网址
DOI
10.1016/j.mee.2021.111632 doi
其它 期刊:Microelectronic Engineering
作者:Madhushree Bute; S.D. Dhole; V.N. Bhoraskar; Aditya Abhyankar; Chiaki Terashima; et al
出版日期:2021-10-01
求助人
了然 在 2023-10-14 08:42:08 发布自山东,悬赏 10 积分
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