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 High-Quality Silicon Surface Passivation by Thermal-ALD Deposited Hafnium Oxide Films 热ALD沉积氧化铪膜对高质量硅表面钝化的研究
相关领域
钝化
硅
原子层沉积
材料科学
分析化学（期刊）
图层（电子）
纳米技术
光电子学
化学
有机化学
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期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Shweta Tomer; Meenakshi Devi; Abhishek Kumar; Subha Laxmi; Subhashree Satapathy; et al 出版日期：2023-09-01 |
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