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IMPACT OF INDIUM DOPING ON ZnO THIN FILM SUBJECTED TO APPROPRIATE UHV TREATMENT CHARACTERIZED BY XPS, XRD, AND PL TECHNIQUES
用XPS、XRD和PL技术表征铟掺杂对经过适当特高压处理的ZnO薄膜的影响
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期刊:Surface Review and Letters 作者:EDHAWYA HAMEURLAINE; M’hamed Guezzoul; M’HAMMED BOUSLAMA; A. Ouerdane; AMIRA DERRI; et al 出版日期:2022-04-08 |
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