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标题
IMPACT OF INDIUM DOPING ON ZnO THIN FILM SUBJECTED TO APPROPRIATE UHV TREATMENT CHARACTERIZED BY XPS, XRD, AND PL TECHNIQUES
用XPS、XRD和PL技术表征铟掺杂对经过适当特高压处理的ZnO薄膜的影响
相关领域
X射线光电子能谱 材料科学 纤锌矿晶体结构 光致发光 薄膜 兴奋剂 分析化学(期刊) 基质(水族馆) 溅射 氧气 化学工程 纳米技术 光电子学 冶金 化学 海洋学 有机化学 色谱法 地质学 工程类
网址
DOI
10.1142/s0218625x22500706 doi
其它 期刊:Surface Review and Letters
作者:EDHAWYA HAMEURLAINE; M’hamed Guezzoul; M’HAMMED BOUSLAMA; A. Ouerdane; AMIRA DERRI; et al
出版日期:2022-04-08
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