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Diffusion of Boron near Projected Ranges of B and BF2Ions Implanted in Silicon
硼在硅中注入B和BF2离子投影范围附近的扩散
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Ruey‐Dar Chang; Chih-Hung Lin; Li-Wei Ho 出版日期:2008-12-01 |
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