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 Gadolinium silicate gate dielectric films with sub-1.5 nm equivalent oxide thickness 等效氧化物厚度小于1.5 nm的硅酸钆栅介质膜
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期刊：Applied Physics Letters 作者：J. A. Gupta; D. Landheer; J. P. McCaffrey; G. I. Sproule 出版日期：2001-03-19 |
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