标题 |
Effect of N2O Treatment on the Performance of Back Channel Etched Metal Oxide Thin Film Transistors
N2O处理对背沟道刻蚀金属氧化物薄膜晶体管性能的影响
相关领域
材料科学
薄膜晶体管
钝化
等离子体增强化学气相沉积
光电子学
薄膜
氧化物薄膜晶体管
氧化物
图层(电子)
分析化学(期刊)
化学气相沉积
纳米技术
冶金
化学
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Wuli xuebao 作者:Hua Xu; Jingdong Liu; Wei Cai; Min Li; Miao Xu; et al 出版日期:2022-01-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|