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标题
Effect of N2O Treatment on the Performance of Back Channel Etched Metal Oxide Thin Film Transistors
N2O处理对背沟道刻蚀金属氧化物薄膜晶体管性能的影响
相关领域
材料科学 薄膜晶体管 钝化 等离子体增强化学气相沉积 光电子学 薄膜 氧化物薄膜晶体管 氧化物 图层(电子) 分析化学(期刊) 化学气相沉积 纳米技术 冶金 化学 色谱法
网址
DOI
10.7498/aps.71.20211350 doi
其它 期刊:Wuli xuebao
作者:Hua Xu; Jingdong Liu; Wei Cai; Min Li; Miao Xu; et al
出版日期:2022-01-01
求助人
JINX 在 2024-06-17 10:14:57 发布自浙江,悬赏 10 积分
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