| 标题 |
 A magnetron sputtering technique to prepare a-C:H films: Effect of substrate bias 磁控溅射制备a-C：H薄膜：衬底偏压的影响
相关领域
偏压
材料科学
微观结构
溅射沉积
无定形固体
基质（水族馆）
沉积（地质）
无定形碳
钻石
溅射
复合材料
腔磁控管
薄膜
类金刚石碳
碳膜
电压
分析化学（期刊）
冶金
纳米技术
结晶学
化学
电气工程
古生物学
工程类
地质学
海洋学
生物
色谱法
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Yongxia Wang; Yinping Ye; Hongxuan Li; Ji Li; Jianmin Chen; et al 出版日期：2011-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
tuanheqi
shinysparrow
寻道图强
ss25
iWatchTheMoon
良辰
mmmm
Zinc
不安青牛
InfoNinja
杳鸢
iNk
嗯哼
AaronW
饱满的土豆
wy.he
oceanao
祥梦伊飞
可爱的函函
tianzml0
皖公网安备34019202002308
