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 Fluorine‐Free Nanoporous Low‐ k Dielectric Film Covalently Grafted on Si via Aryldiazonium Chemistry 芳基重氮化学与硅共价接枝无氟纳米多孔低k介电膜
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期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Liangliang Cao; Yunwen Wu; Tao Hang; Ming Li 出版日期：2021-11-12 |
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