标题 |
![]() 在220纳米绝缘体上硅平台上具有金属镜的单蚀刻光纤芯片耦合器,用于完美的垂直耦合
相关领域
材料科学
绝缘体上的硅
光学
耦合损耗
光电子学
波长
光子集成电路
带宽(计算)
光纤
蚀刻(微加工)
耦合模理论
硅
光子学
折射率
电信
计算机科学
纳米技术
物理
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Optics Letters 作者:Lihang Wang; Jifang Qiu; Zhenli Dong; Yuchen Chen; Lan Wu; et al 出版日期:2024-05-03 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|