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 Gas-phase study of the behavior of trimethyl gallium and triethyl gallium by optical emission spectroscopy and quadrupole mass spectroscopy for the growth of GaN by REMOCVD (radical-enhanced metalorganic chemical vapor deposition) 通过REMOCVD（自由基增强金属有机化学气相沉积）生长GaN时三甲基镓和三乙基镓行为的气相研究
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Arun Kumar Dhasiyan; Swathy Jayaprasad; Frank Wilson Amalraj; Naohiro Shimizu; Osamu Oda; et al 出版日期：2023-09-26 |
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