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 Effect of low temperature and concentration KOH etching on high aspect ratio silicon structures 低温高浓度KOH刻蚀对高长径比硅结构的影响
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期刊：Physica status solidi. C, Conferences and critical reviews/Physica status solidi. C, Current topics in solid state physics 作者：Thomas Defforge; Loïc Coudron; Gaël Gautier; Sébastien Kouassi; Wilfried Vervisch; et al 出版日期：2010-11-23 |
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