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 DSA materials and processes development for ≤ P24 EUV resist L/S pattern rectification ≤P24 EUV抗L/S模式整流DSA材料及工艺研究
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期刊： 作者：Eungnak Han; Gurpreet Singh; T. Karar Mahdi; Robert Seidel; Sandra Murcia; et al 出版日期：2024-04-10 |
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