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 Ni based silicides for 45nm CMOS and beyond 用于45nm及以上CMOS的镍基硅化物
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期刊：Materials Science and Engineering B 作者：A. Lauwers; J. A. Kittl; M.J.H. van Dal; O. Chamirian; Małgorzata Pawlak; et al 出版日期：2004-09-24 |
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