Low‐Temperature Melt Processing Monolithic Integration of Organic Manganese (II) Bromide Wafers with Pixelated Substrate for High Sensitivity X‐Ray Imaging

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标题	Low‐Temperature Melt Processing Monolithic Integration of Organic Manganese (II) Bromide Wafers with Pixelated Substrate for High Sensitivity X‐Ray Imaging 用于高灵敏度X射线成像的有机锰(II)溴化片与像素化衬底的低温熔融单片集成相关领域材料科学薄脆饼光电子学基质（水族馆）海洋学地质学
网址	https://doi.org/10.1002/adfm.202208199
DOI	10.1002/adfm.202208199 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Hengxin Li; Yutian Lei; Guoqiang Peng; Qian Wang; Zhenhua Li; et al 出版日期：2022-09-25
求助人	123 在 2024-12-23 15:25:10 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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