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 High aspect ratio polyimide etching using an oxygen plasma generated by electron cyclotron resonance source 利用电子回旋加速器共振源产生的氧等离子体进行高长宽比的聚氨酯蚀刻
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：W. H. Juan; S. W. Pang 出版日期：1994-01-01 |
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