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Enhancing the quality of homoepitaxial (−201) β-Ga2O3 thin film by MOCVD with in situ pulsed indium
原位脉冲铟MOCVD提高同向外延(−201)β-Ga2O3薄膜质量
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Yao Wang; Jiale Li; Tao Zhang; Wenkai Wu; Wenji Li; et al 出版日期:2024-02-12 |
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