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标题
Atomic layer deposited TiN capping layer for sub-10 nm ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 with large remnant polarization and low thermal budget
具有大剩余极化和低热收支的亚10nm铁电体Hf0.5Zr 0.5 O2的原子层沉积TiN覆盖层
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.151152
DOI
10.1016/j.apsusc.2021.151152 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Chin-I Wang; Chun-Yuan Wang; Teng-Yuan Chang; Yu-Sen Jiang; Jing‐Jong Shyue; et al
出版日期：2021-09-09
求助人
陈斌 在 2024-12-28 00:40:20 发布自福建，悬赏 10 积分
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