Power dependence of NF3 plasma stability for in situ chamber cleaning

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标题	Power dependence of NF3 plasma stability for in situ chamber cleaning 原位腔室清洗NF3等离子体稳定性的功率依赖性相关领域等离子体化学体积流量化学气相沉积原位离子分析化学（期刊）射频功率放大器沉积（地质）原子物理学材料科学光电子学热力学环境化学核物理学生物物理沉积物古生物学有机化学放大器 CMOS芯片
网址	https://doi.org/10.1063/1.1688994
DOI	10.1063/1.1688994 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Bing Ji; Delwin L. Elder; J. Yang; Peter R. Badowski; Eugene J. Karwacki 出版日期：2004-03-25
求助人	谦让海白在 2025-02-05 15:36:55 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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