标题 |
MOCVD growth and thermal stability analysis of 1.2 µm InGaAs/GaAs multi quantum well structure
1.2 m InGaAs/GaAs多量子阱结构的MOCVD生长及热稳定性分析
相关领域
金属有机气相外延
材料科学
光电子学
光致发光
三甲基镓
砷化镓
化学气相沉积
退火(玻璃)
三乙基镓
三甲基铟
镓
量子阱
砷化铟镓
铟
热稳定性
外延
激光器
光学
化学
纳米技术
复合材料
有机化学
冶金
物理
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Alloys and Compounds 作者:Xiangliu Chen; Yue Xiao; Cheng Yang; Zhicheng Zhang; Yudan Gou; et al 出版日期:2022-11-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|