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标题
MOCVD growth and thermal stability analysis of 1.2 µm InGaAs/GaAs multi quantum well structure
1.2 m InGaAs/GaAs多量子阱结构的MOCVD生长及热稳定性分析
相关领域
金属有机气相外延 材料科学 光电子学 光致发光 三甲基镓 砷化镓 化学气相沉积 退火(玻璃) 三乙基镓 三甲基铟 量子阱 砷化铟镓 热稳定性 外延 激光器 光学 化学 纳米技术 复合材料 有机化学 冶金 物理 图层(电子)
网址
DOI
10.1016/j.jallcom.2022.166173 doi
其它 期刊:Journal of Alloys and Compounds
作者:Xiangliu Chen; Yue Xiao; Cheng Yang; Zhicheng Zhang; Yudan Gou; et al
出版日期:2022-11-01
求助人
星辰 在 2024-11-29 17:55:32 发布自浙江,悬赏 10 积分
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