| 标题 |
 Leakage mechanism in ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 epitaxial thin films 铁电Hf0.5Zr 0.5 O2外延薄膜的泄漏机理
相关领域
铁电性
微电子
材料科学
外延
光电子学
泄漏（经济）
异质结
退火（玻璃）
肖特基势垒
肖特基二极管
薄膜
纳米技术
复合材料
图层（电子）
电介质
经济
宏观经济学
二极管
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Materials Today 作者：Xian‐Long Cheng; Chao Zhou; Baichen Lin; Zhenni Yang; Shanquan Chen; et al 出版日期：2023-06-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
嘉心糖
薰硝壤
Emma
彭于彦祖
随机子
YL
梁朝伟
HEIKU
寻道图强
8R60d8
嗯哼
坚强的广山
洁净白枫
iNk
陈军
tianzml0
爱静静
tuanheqi
吃不饱星球球长
个性的紫菜
皖公网安备34019202002308
