标题 |
Filling the nitrogen vacancies with sulphur dopants in graphitic C3N4 for efficient and robust electrocatalytic nitrogen reduction
用硫掺杂剂填充石墨C3N4中的氮空位用于高效和稳健的电催化氮还原
相关领域
掺杂剂
法拉第效率
催化作用
离解(化学)
氮气
材料科学
密度泛函理论
石墨氮化碳
化学工程
光催化
氧化还原
吸附
化学
纳米技术
兴奋剂
无机化学
硫黄
光化学
电极
物理化学
电化学
计算化学
光电子学
有机化学
冶金
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Catalysis B-environmental 作者:Ke Chu; Qing Li; Yaping Liu; Jing Wang; Yonghua Cheng 出版日期:2020-06-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|