Excellent crystalline silicon surface passivation by amorphous silicon irrespective of the technique used for chemical vapor deposition

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标题	Excellent crystalline silicon surface passivation by amorphous silicon irrespective of the technique used for chemical vapor deposition 通过非晶硅优异的晶体硅表面钝化，而与用于化学气相沉积的技术无关相关领域悬空债券钝化材料科学化学气相沉积非晶硅硅晶体硅等离子体增强化学气相沉积退火（玻璃）无定形固体纳米晶硅分析化学（期刊）化学工程光电子学纳米技术复合材料化学结晶学图层（电子）有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1063/1.3579540
DOI	10.1063/1.3579540 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Jan‐Willem Schüttauf; Karine H. M. van der Werf; Inge M. Kielen; Wilfried van Sark; J.K. Rath; et al 出版日期：2011-04-11
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