Recent developments in photoresists for extreme-ultraviolet lithography

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标题	Recent developments in photoresists for extreme-ultraviolet lithography 极紫外光刻用光刻胶的研究进展相关领域极紫外光刻平版印刷术极端紫外线抵抗纳米技术材料科学光掩模光刻国家实验室工程物理光学物理光电子学激光器图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.polymer.2023.126020
DOI	10.1016/j.polymer.2023.126020 doi
其它	期刊：Polymer 作者：Christopher K. Ober; Florian Käfer; Chenyun Yuan 出版日期：2023-07-01
求助人	balabala 在 2024-04-19 14:56:06 发布自湖北，悬赏 10 积分
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