Etching and annealing treatment to improve the plasma-deposited SiOx film adhesion force

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标题	Etching and annealing treatment to improve the plasma-deposited SiOx film adhesion force 提高等离子体沉积SiOx薄膜附着力的蚀刻退火处理相关领域材料科学退火（玻璃）复合材料等离子体刻蚀薄膜分析化学（期刊）纳米技术蚀刻（微加工）化学色谱法图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127840
DOI	10.1016/j.surfcoat.2021.127840 doi
其它	期刊：Surface & coatings technology/Surface and coatings technology 作者：Ruixue Wang; Zhangchuang Xia; Xianghao Kong; Lihong Liang; Kostya Ostrikov 出版日期：2021-12-01
求助人	xiaoran 在 2024-05-27 19:02:25 发布自新疆，悬赏 10 积分
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