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 Fast extreme ultraviolet lithography mask near-field calculation method based on machine learning 基于机器学习的极紫外光刻掩模近场快速计算方法
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期刊：Applied Optics 作者：Jiaxin Lin; Lisong Dong; Taian Fan; Xu Ma; Rui Chen; et al 出版日期：2020-03-20 |
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