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Over 6 μm thick MOCVD-grown low-background carrier density (1015 cm−3) high-mobility (010) β-Ga2O3 drift layers
超过6 μ m厚的MOCVD生长的低背景载流子密度(1015cm−3)高迁移率(010)β-Ga2O3漂移层
相关领域
金属有机气相外延
三乙基镓
外延
材料科学
化学气相沉积
掺杂剂
分析化学(期刊)
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Arkka Bhattacharyya; Carl Peterson; Kittamet Chanchaiworawit; Saurav Roy; Yizheng Liu; et al 出版日期:2024-01-01 |
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