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标题
Protection of extreme ultraviolet lithography masks. I. Thermophoretic protection factors at low pressure for diffusing nanoscale particles
极紫外光刻掩模的防护。I.用于扩散纳米级颗粒的低压热泳保护因子
相关领域
极紫外光刻 热泳 粒子（生态学） 极端紫外线 十字线 平版印刷术 材料科学 抵抗 颗粒沉积 紫外线 光学 纳米技术 光电子学 纳米颗粒 物理 航程（航空） 复合材料 薄脆饼 地质学 激光器 海洋学 纳米流体 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1116/1.4916210
DOI
10.1116/1.4916210 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Leonard E. Klebanoff; Anthony S. Geller; J. R. Torczynski; M. A. Gallis; Daniel J. Rader; et al
出版日期：2015-03-27
求助人
QRE 在 2024-12-27 17:12:00 发布自北京，悬赏 10 积分
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