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 Characterization techniques of ion bombardment damage on electronic devices during plasma processing—plasma process-induced damage 等离子体处理期间电子设备离子轰击损伤的描述技术-等离子体处理引起的损伤
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Koji Eriguchi 出版日期：2021-02-10 |
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