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 Influence of Chemical Structures on E-Beam Lithography Performance of Polysilsesquioxanes 化学结构对聚倍半硅氧烷电子束光刻性能的影响
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Miao Li; Ruisheng Zhang; Xinyu Lu; Lianbin Wu; Zaoxia Wen; et al 出版日期：2024-09-12 |
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