High entropy nitride (HEN) thin films of AlCoCrCu0.5FeNi deposited by reactive magnetron sputtering

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标题	High entropy nitride (HEN) thin films of AlCoCrCu0.5FeNi deposited by reactive magnetron sputtering 反应磁控溅射AlCoCrCu0.5FeNi高熵氮化物薄膜相关领域材料科学薄膜纳米压痕氮化物溅射沉积溅射高熵合金扫描电子显微镜物理气相沉积氮化铬复合材料分析化学（期刊） X射线光电子能谱化学工程无定形固体微观结构结晶学纳米技术化学色谱法工程类图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.126327
DOI	10.1016/j.surfcoat.2020.126327 doi
其它	期刊：Surface & Coatings Technology 作者：N. A. Khan; Behnam Akhavan; Cuifeng Zhou; Haoruo Zhou; Li Chang; et al 出版日期：2020-11-25
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