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![]() C4F8/Ar/O2等离子体中SiO2选择性蚀刻Si和Si3N4的蚀刻反应与活性物质通量的关系
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Miyako Matsui; Tetsuya Tatsumi; Makoto Sekine 出版日期:2002-07-27 |
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