标题 |
Physics and technology of magnetron sputtering discharges
磁控溅射放电物理与技术
相关领域
溅射
溅射沉积
阴极
高功率脉冲磁控溅射
腔磁控管
电离
光电子学
等离子体
材料科学
物理气相沉积
原子物理学
分析化学(期刊)
化学
薄膜
离子
纳米技术
物理
量子力学
色谱法
物理化学
有机化学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Plasma Sources Science and Technology 作者:Jón Tómas Guðmundsson 出版日期:2020-11-01 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|