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 Hydrogen induced passivation of Si interfaces by Al2O3 films and SiO2/Al2O3 stacks Al2O3薄膜和SiO2/Al2O3叠层对Si界面的氢致钝化
相关领域
钝化
退火（玻璃）
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材料科学
氢
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期刊：Applied Physics Letters 作者：G. Dingemans; W. Beyer; M. C. M. van de Sanden; W. M. M. Kessels 出版日期：2010-10-11 |
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