| 标题 |
 Re-examination of the Aqueous Stability of Atomic Layer Deposited (ALD) Amorphous Alumina (Al2O3) Thin Films and the Use of a Postdeposition Air Plasma Anneal to Enhance Stability 原子层沉积（ALD）非晶氧化铝（Al2O3）薄膜水稳定性的再检验和沉积后空气等离子体退火提高稳定性的应用
相关领域
原子层沉积
无定形固体
水溶液
退火（玻璃）
薄膜
X射线光电子能谱
化学工程
材料科学
氧化物
热稳定性
氢氧化物
无机化学
化学
纳米技术
冶金
有机化学
结晶学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Langmuir 作者：Simon A. Willis; Emily K. McGuinness; Yang Li; Mark D. Losego 出版日期：2021-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
热心市民小红花
Leonardi
wen
薰硝壤
夏来
嗯哼
shinysparrow
敬老院N号
sissiarno
Singularity
古的古的
yufanhui
zeo
小蚂蚁
敬老院1号
rosalieshi
Dore
Cat
香芋
s615
皖公网安备34019202002308
